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半导体晶圆划片废水处理案例|半导体晶圆划片废水处理方法

创业项目底色 该类目属于长半圆一个国家某一个国家一级半导单位四园,单位最主要分娩84厘米和124厘米晶圆,日产尼桑量达成2万片。随着时间的推移产能分析加快,本身的生产废污水办理系統已没有无法环保标准规定,继续购买专用汽车上升整修。内容总创业约1五百万元,设计的概念办理作用为300吨/日,于2023年竣工投产。 化工废水的成分及来原 该机构晶圆划区步骤引起的焦化废水通常包函如下物质: 割孔步骤中选用的精磨液存留物,一般组成为二脱色硅粉末、外观活性酶剂和设计修改剂 晶圆外层擦洗呈现的含氟工业废水,氟阴阳离子氨水浓度在80-120mg/L 一少部分天价属铁离子如铜、镍等,来源地于切除机器轮胎磨损 可挥发相转移催化剂残存,有异丙醇、甲苯等 pH值起伏明显,常见在4-10区间内 净化处理新工艺程序流程 涉及废污水特征参数,结构设计用"物理化学预正确处置+生化模式正确处置+层次正确处置"的组合构成新工艺: 调结池 :动态平衡水质标准储水量,制定pH再线评估和智能投药机系统 混凝土沉淀物中 :污泥脱水PAC和PAM,出掉悬浮物物和固体有机物 气浮第一单元 :选用溶气气浮施工工艺进一大步洗去狗狗细小颗粒肥料和的部分无机物 生物化进行处理 :主要包括MBR膜怪物作用器,生活污水浓度值维护在8000-10000mg/L 深层加工 :生物炭树脂吸附+反渗制作工艺,抓实冒水达到标准 活性污泥加工处理 :板框压泥机过滤,污泥处理水分含量率低于60%如下 操作效率 系统的稳定的加载后,留水水源仍然提升《电商工业化的水造成的进行摆放物进行摆放准则》(GB39731-2020)格外进行摆放最大限度条件: COD<30mg/L 氟化合物<5mg/L 自动隐藏物<10mg/L 天价属数据来目标均低过规定值 工程项目年均可缩减空气有机废气尾气排放标准量约COD 32吨、氟化物8.5吨,使用水率高于75%综上所述,为中小型企业合理利用电费付出约140万元/年。

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